南大光电发布公告 自研ArF光刻胶产品获客户认证

ArF光刻胶国产化再进一步。

5月31日晚，南大光电(300346.SZ)发布公告称，公司自主研发的ArF光刻胶产品再次通过客户认证。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，对国内半导体自主研发及国产化意义重大。

南大光电由南京大学孙祥祯教授创办，近年来，公司加快产业转型，奔跑在助力半导体产业国产化突破的路上。

“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目，于2017年开始研发，至今已有4年多。

2020年12月17日晚，南大光电曾公告称，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证。认证评估报告显示，本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求，良率结果达标。

当时，南大光电表示，本次产品认证的通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

这一次，南大光电的光刻胶产品认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证，测试良率结果符合要求，表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

相较去年12月的产品通过认证，本次选择的是55nm技术节点逻辑芯片。

南大光电称，公司自主研发的ArF光刻胶产品去年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，这一次是在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得认证突破。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。

业内普遍认为，ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内IC行业的快速发展，自主创新和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。

光电称，ArF光刻胶产品与本次认证通过的客户之间的产品销售与服务协议尚在协商中，ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，决定着ArF光刻胶的量产规模和经济效益。

今年5月11日，南大光电董事长冯剑松在2020年度业绩说明会上介绍，自主研发的ArF光刻胶产品拿到了国产光刻胶首个订单，已经实现小批量销售。公司ArF光刻胶产品开发和产业化项目已完成25吨光刻胶生产线建设。

6月1日早盘，受利好消息刺激，南大光电股价大涨12.6%，收报35.47元/股，市值增长16.16亿元。(记者 沈右荣)